Breakdown of shallow-level donors in Si and Ge on the insulating side of a strain-induced metal-insulator transition
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Veröffentlicht in: | Semiconductors (Woodbury, N.Y.) N.Y.), 2000-01, Vol.34 (9), p.1021-1023 |
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Hauptverfasser: | , , , , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Online-Zugang: | Volltext |
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ISSN: | 1063-7826 1090-6479 |
DOI: | 10.1134/1.1309413 |