Influence of electron irradiation of the NOVER-1 vacuum resist on its resistance to ionbeam etching

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Technical physics 1998-01, Vol.43 (1), p.126-128
Hauptverfasser:	Koval’, Yu. I., Petrashov, V. T.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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