Ultraviolet light enhancement of Ta2O5 dry etch rates

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of vacuum science & technology. B, Microelectronics and nanometer structures processing, measurement and phenomena Microelectronics and nanometer structures processing, measurement and phenomena, 2000-01, Vol.18 (1), p.293-295
Hauptverfasser:	Lee, K. P., Cho, H., Singh, R. K., Pearton, S. J., Hobbs, C., Tobin, P.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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