Gamma and vacuum ultraviolet irradiations of ion implanted SiO 2 for MOS dielectrics

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:IEEE transactions on nuclear science 1974-12, Vol.21 (6), p.159-166
Hauptverfasser: Emms, C. G., Holmes-Siedle, A. G., Groombridge, I., Thomson, J. J., Bosnell, J. R.
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0018-9499
1558-1578
DOI:10.1109/TNS.1974.6498922