Precise Damage Observation in Ion-Beam Etched MTJ
Patterning damage at the sidewall in a magnetic tunnel junction (MTJ) was observed precisely using a rectangular MTJ where deterioration in crystallinity is easier to identify than in the case of a dot-shaped conventional MTJ. A 200-500 nm-square rectangular MTJ was patterned by a 200 eV ion beam (I...
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Veröffentlicht in: | IEEE transactions on magnetics 2016-07, Vol.52 (7), p.1-3 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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