Enhance the Electrical and Photoelectrical Performance of MoS 2 Transistor With Polyimide Gate Dielectric by Microwave Annealing

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:IEEE transactions on electron devices 2024-04, Vol.71 (4), p.2736-2741
Hauptverfasser: Zhang, Yifei, Su, Xing, Cui, Siwei, Yang, Hui, Wu, Dongping
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0018-9383
1557-9646
DOI:10.1109/TED.2024.3367311