Enhancement of Electrical Stability in Solution Processed In 2 O 3 TFT by an Oxygen Plasma-Assisted Treatment

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	IEEE transactions on electron devices 2023-11, Vol.70 (11), p.5678-5684
Hauptverfasser:	Shan, Fei, Lee, Jae-Yun, Tarsoly, Gergely, Zhao, Han-Lin, Wang, Xiao-Lin, Anvar, Tukhtaev, Yoo, Suchang, Kim, Sung-Jin
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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