Experimentally Determining the Top and Edge Contact Resistivities of Two-Step Sulfurization Nb-Doped MoS 2 Films Using the Transmission Line Measurement

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	IEEE electron device letters 2019-10, Vol.40 (10), p.1662-1665
Hauptverfasser:	Chung, Yun-Yan, Li, Chi-Feng, Lin, Chao-Ting, Ho, Yen-Teng, Chien, Chao-Hsin
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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