Impact of Al Doping on Surface Passivation of TiO x on Si

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:IEEE journal of photovoltaics 2020-07, Vol.10 (4), p.940-944
Hauptverfasser: Liang, Wensheng, Tong, Jingnan, Narangari, Parvathala, Armand, Stephane, Kho, Teng Choon, Ernst, Marco, Walter, Daniel, Surve, Sachin R., McIntosh, Keith Reid, Stocks, Matthew, Weber, Klaus J., Blakers, Andrew, Fong, Kean Chern
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:2156-3381
2156-3403
DOI:10.1109/JPHOTOV.2020.2982169