Cathodoluminescence Study of Damage Formation and Recovery in Si-ion-implanted β-Ga 2 O 3

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:IEEE journal of the Electron Devices Society 2022, Vol.10, p.751-756
Hauptverfasser: Sugie, Ryuichi, Uchida, Tomoyuki, Hashimoto, Ai, Akahori, Seishi, Matsumura, Koji, Tanii, Yoshiharu
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:2168-6734
2168-6734
DOI:10.1109/JEDS.2021.3134407