MoSi 2 formation by rapid isothermal annealing

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:IEEE electron device letters 1982-07, Vol.3 (7), p.179-181
Hauptverfasser: Fulks, R.T., Powell, R.A., Stacy, W.T.
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0741-3106
DOI:10.1109/EDL.1982.25529