MoSi 2 formation by rapid isothermal annealing
Gespeichert in:
Veröffentlicht in: | IEEE electron device letters 1982-07, Vol.3 (7), p.179-181 |
---|---|
Hauptverfasser: | , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Online-Zugang: | Volltext |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Zusammenfassung: | |
---|---|
ISSN: | 0741-3106 |
DOI: | 10.1109/EDL.1982.25529 |