Effect of H 2 content on reliability of ultrathin in-situ steam generated (ISSG) SiO 2

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:IEEE electron device letters 2000-09, Vol.21 (9), p.430-432
Hauptverfasser: Luo, T.Y., Laughery, M., Brown, G.A., Al-Shareef, H.N., Watt, V.H.C., Karamcheti, A., Jackson, M.D., Huff, H.R.
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0741-3106
1558-0563
DOI:10.1109/55.863100