Study of thermal behaviour of oxygen in silicon crystals by analysis of X-ray Pendellösung fringes

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Acta crystallographica. Section A, Foundations of crystallography Foundations of crystallography, 1994-11, Vol.50 (6), p.725-730
Hauptverfasser: Li, M., Mai, Z.-H., Cui, S.-F.
Format: Artikel
Sprache:eng
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0108-7673
1600-5724
DOI:10.1107/S0108767394004332