$Crystallization study of Ta–Si thin films with time-resolved X-ray diffraction at high temperatures$

Crystallization study of Ta–Si thin films with time-resolved X-ray diffraction at high temperatures

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Acta crystallographica. Section A, Foundations of crystallography Foundations of crystallography, 1984-08, Vol.40 (a1), p.C188-C188
Hauptverfasser:	Russwurm, W., von Philipsborn, H., Göbel, H. E., Neppl, F.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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