Effect of dislocation density on integrated intensity of X-ray scattering by silicon crystals in Laue geometry

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Acta crystallographica. Section A, Foundations of crystallography Foundations of crystallography, 1983-01, Vol.39 (1), p.116-122
Hauptverfasser: Olekhnovich, N. M., Karpei, A. L., Olekhnovich, A. I., Puzenkova, L. D.
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0108-7673
1600-5724
DOI:10.1107/S0108767383000203