Diffusion mechanisms for silicon di-interstitials

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Physical review. B, Condensed matter and materials physics Condensed matter and materials physics, 2006-06, Vol.73 (24), Article 245203
Hauptverfasser: Du, Yaojun A., Hennig, Richard G., Wilkins, John W.
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:1098-0121
1550-235X
DOI:10.1103/PhysRevB.73.245203