Reaction rates for ionized physical vapor deposition modeling from molecular-dynamics calculations: Effect of surface roughness

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Physical review. B, Condensed matter Condensed matter, 1999-11, Vol.60 (20), p.14417-14421
Hauptverfasser:	Hansen, U., Kersch, A.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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