Influence of thin SiO 2 interlayers on chemical reaction and microstructure at the Ni/Si(111) interface

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Physical review. B, Condensed matter Condensed matter, 1986-04, Vol.33 (8), p.5517-5525
Hauptverfasser:	Liehr, M., Lefakis, H., LeGoues, F. K., Rubloff, G. W.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!