Identification of intermediate radicals in the CH 4 microwave plasma by the Li + attachment method

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Physical review. A, Atomic, molecular, and optical physics Atomic, molecular, and optical physics, 1992-09, Vol.46 (6), p.3555-3557
Hauptverfasser: Fujii, Toshihiro, Syouji, Ken-ichi
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:1050-2947
1094-1622
DOI:10.1103/PhysRevA.46.3555