Rational design for high-yield monolayer WS 2 films in confined space under fast thermal processing

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Nanotechnology 2021-12, Vol.32 (50), p.505603
Hauptverfasser:	Shen, Jun, Yan, Jiangbing, Zhan, Li, Wu, Chuanqiang, Ge, Binghui, Wang, Xu, Wang, Hongbing, Cui, Qilong, Yang, Dong, Zhang, Hongling, Zhang, Xin, Cui, Hengqing
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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