Si sputtering yield amplification: a study of the collisions cascade and species in the sputtering plasma

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Veröffentlicht in:Journal of physics. D, Applied physics Applied physics, 2021-09, Vol.54 (37), p.375201
Hauptverfasser: Cruz, J, Sanginés, R, Soto-Valle, G, Muhl, S, Sierra, I, De Lucio-Morales, O, Ruvalcaba, J L, Mitrani, A, Calderón-Olvera, R M, Mendoza-Pérez, R, Machorro-Mejía, R
Format: Artikel
Sprache:eng
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