Si sputtering yield amplification: a study of the collisions cascade and species in the sputtering plasma

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Veröffentlicht in:	Journal of physics. D, Applied physics Applied physics, 2021-09, Vol.54 (37), p.375201
Hauptverfasser:	Cruz, J, Sanginés, R, Soto-Valle, G, Muhl, S, Sierra, I, De Lucio-Morales, O, Ruvalcaba, J L, Mitrani, A, Calderón-Olvera, R M, Mendoza-Pérez, R, Machorro-Mejía, R
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	optical emission spectroscopy sputtering sputtering yield amplification thin films
Online-Zugang:	Volltext
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