Annealing of ion-implanted Si using a scanned CW laser system

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Radiation effects 1980-01, Vol.48 (1-4), p.195-201
Hauptverfasser:	Gat, A., Gerzberg, L., Gibbons, J. F., Lietoila, A., Johnson, N. M., Magee, T. J., Peng, J., Deline, V., Williams, P., Evans, C. A.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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