Effect of the energy of ion-chemical etching of GaAs/Al x Ga 1- x As structures on photoluminescence and degradation of devices

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Veröffentlicht in:Quantum electronics (Woodbury, N.Y.) N.Y.), 2005-05, Vol.35 (5), p.445-448
Hauptverfasser: Zubanov, Andrei V, Uspenskii, Mikhail B, Shishkin, Viktor A
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:1063-7818
1468-4799
DOI:10.1070/QE2005v035n05ABEH002691