Effect of the energy of ion-chemical etching of GaAs/Al x Ga 1- x As structures on photoluminescence and degradation of devices
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Veröffentlicht in: | Quantum electronics (Woodbury, N.Y.) N.Y.), 2005-05, Vol.35 (5), p.445-448 |
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Hauptverfasser: | , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Online-Zugang: | Volltext |
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ISSN: | 1063-7818 1468-4799 |
DOI: | 10.1070/QE2005v035n05ABEH002691 |