Si content variation and influence of deposition atmosphere in homoepitaxial Si-doped β-Ga 2 O 3 films by pulsed laser deposition
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Veröffentlicht in: | APL materials 2018-10, Vol.6 (10), p.101102 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Online-Zugang: | Volltext |
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ISSN: | 2166-532X 2166-532X |
DOI: | 10.1063/1.5047214 |