Si content variation and influence of deposition atmosphere in homoepitaxial Si-doped β-Ga 2 O 3 films by pulsed laser deposition

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:APL materials 2018-10, Vol.6 (10), p.101102
Hauptverfasser: Leedy, Kevin D., Chabak, Kelson D., Vasilyev, Vladimir, Look, David C., Mahalingam, Krishnamurthy, Brown, Jeff L., Green, Andrew J., Bowers, Cynthia T., Crespo, Antonio, Thomson, Darren B., Jessen, Gregg H.
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:2166-532X
2166-532X
DOI:10.1063/1.5047214