Erratum: “Plasma chemistry aspects of a -Si:H deposition using an expanding thermal plasma” [J. Appl. Phys. 84 , 2426 (1998)]

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Journal of applied physics 1999-01, Vol.85 (2), p.1243-1243
Hauptverfasser:	van de Sanden, M. C. M., Severens, R. J., Kessels, W. M. M., Meulenbroeks, R. F. G., Schram, D. C.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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