Ionized Mg doping in molecular-beam epitaxy of GaAs

Using ionized Mg beams accelerated to energies from 130 to 500 eV, Mg doping was studied in molecular-beam epitaxy of GaAs. The incorporation coefficient of Mg increases by a factor of about 100 when compared with the use of neutral Mg beams. Hole concentrations as high as about 1×1019 cm−3 have bee...

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Veröffentlicht in:Journal of applied physics 1986-02, Vol.59 (4), p.1092-1095
Hauptverfasser: MANNOH, M, NOMURA, Y, SHINOZAKI, K, MIHARA, M, ISHII, M
Format: Artikel
Sprache:eng
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