Ionized Mg doping in molecular-beam epitaxy of GaAs
Using ionized Mg beams accelerated to energies from 130 to 500 eV, Mg doping was studied in molecular-beam epitaxy of GaAs. The incorporation coefficient of Mg increases by a factor of about 100 when compared with the use of neutral Mg beams. Hole concentrations as high as about 1×1019 cm−3 have bee...
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Veröffentlicht in: | Journal of applied physics 1986-02, Vol.59 (4), p.1092-1095 |
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Hauptverfasser: | , , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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Online-Zugang: | Volltext |
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