Vacuum-deposited thin-metal-film disk

The fabrication process used in an all-vacuum-deposition thin-metal-film disk will be described. The process consists of planar dc-magnetron sputter deposition of a stainless alloy undercoat onto a 14-in.-diameter AlMg-4 disk substrate, e-beam evaporation of an Fe–Co–Cr alloy magnetic layer at an ob...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Journal of applied physics 1984-03, Vol.55 (6), p.2254-2256
Hauptverfasser:	Rossi, E. M., McDonough, G., Tietze, A., Arnoldussen, T., Brunsch, A., Doss, S., Henneberg, M., Lin, F., Lyn, R., Ting, A., Trippel, G.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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