Fabrication of compositional graded Si1−xGex layers by using thermal oxidation

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Applied physics letters 2009-05, Vol.94 (20), p.202104
Hauptverfasser: Jang, J. H., Son, S. Y., Lim, Wantae, Phen, M. S., Siebein, K., Pearton, S. J., Craciun, V.
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0003-6951
1077-3118
DOI:10.1063/1.3139070