Reduction of dislocations in GaN epilayers grown on Si(111) substrate using SixNy inserting layer

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Applied physics letters 2004-08, Vol.85 (9), p.1502-1504
Hauptverfasser: Lee, Kang Jea, Shin, Eun Ho, Lim, Kee Young
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0003-6951
1077-3118
DOI:10.1063/1.1784046