Boron diffusion in amorphous silicon and the role of fluorine

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Applied physics letters 2004-05, Vol.84 (21), p.4283-4285
Hauptverfasser:	Duffy, R., Venezia, V. C., Heringa, A., Pawlak, B. J., Hopstaken, M. J. P., Maas, G. C. J., Tamminga, Y., Dao, T., Roozeboom, F., Pelaz, L.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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