Improved Etching Technique for SiC

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of applied physics 1968-01, Vol.39 (11), p.5332-5333
1. Verfasser: Shaffer, P. T. B.
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0021-8979
1089-7550
DOI:10.1063/1.1655967