Small angle x-ray scattering for sub-100 nm pattern characterization

Characterization of sub-100 nm photolithographic patterns with nanometer scale resolution is demonstrated using small angle x-ray scattering. The transmission scattering geometry employed potentially enables high throughput measurements for future technology nodes of the semiconductor industry, orga...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Appl. Phys. Lett 2003-11, Vol.83 (19), p.4059-4061
Hauptverfasser:	Jones, Ronald L., Hu, Tengjiao, Lin, Eric K., Wu, Wen-Li, Kolb, Rainer, Casa, Diego M., Bolton, Patrick J., Barclay, George G.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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