Metal-assisted chemical etching in HF/H2O2 produces porous silicon

Metal-assisted chemical etching in HF/H2O2 produces porous silicon

A simple and effective method is presented for producing light-emitting porous silicon (PSi). A thin (d

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Applied physics letters 2000-10, Vol.77 (16), p.2572-2574
Hauptverfasser: Li, X., Bohn, P. W.
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:A simple and effective method is presented for producing light-emitting porous silicon (PSi). A thin (d
ISSN:0003-6951
1077-3118
DOI:10.1063/1.1319191