Enhanced damage due to light in low-damage reactive-ion etching processes

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Applied physics letters 2000-05, Vol.76 (20), p.2871-2873
Hauptverfasser:	Deng, L. G., Rahman, M., Wilkinson, C. D. W.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!