Measurement of piezoelectrically induced charge in GaN/AlGaN heterostructure field-effect transistors

Electron concentration profiles have been obtained for AlxGa1−xN/GaN heterostructure field-effect transistor structures. Analysis of the measured electron distributions demonstrates the influence of piezoelectric effects in coherently strained layers on III-V nitride heterostructure device character...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Applied physics letters 1997-11, Vol.71 (19), p.2794-2796
Hauptverfasser: Yu, E. T., Sullivan, G. J., Asbeck, P. M., Wang, C. D., Qiao, D., Lau, S. S.
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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