Atomic layer epitaxy of GaInP ordered alloy

We report on the successful growth of ordered GaInP by atomic layer epitaxy on a GaAs substrate. The growth was achieved by alternate exposures to TEI, PH3, TMGa, and PH3 fluxes, and epilayers were found to closely match the GaAs substrate irrespective of the growth conditions. Room-temperature phot...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Applied physics letters 1990-03, Vol.56 (12), p.1172-1174
Hauptverfasser: MCDERMOTT, B. T, REID, K. G, EL-MASRY, N. A, BEDAIR, S. M, DUNCAN, W. M, YIN, X, POLLAK, F. H
Format: Artikel
Sprache:eng
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