Atomic layer epitaxy of GaInP ordered alloy
We report on the successful growth of ordered GaInP by atomic layer epitaxy on a GaAs substrate. The growth was achieved by alternate exposures to TEI, PH3, TMGa, and PH3 fluxes, and epilayers were found to closely match the GaAs substrate irrespective of the growth conditions. Room-temperature phot...
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Veröffentlicht in: | Applied physics letters 1990-03, Vol.56 (12), p.1172-1174 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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Online-Zugang: | Volltext |
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