Low-energy ion-enhanced deposition of SiO2 in rf magnetron plasmas

A novel low-temperature (

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Applied physics letters 1988-11, Vol.53 (21), p.2030-2032
Hauptverfasser:	I, L, TING, L. W
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Condensed matter: structure, mechanical and thermal properties Exact sciences and technology Physics Surfaces and interfaces thin films and whiskers (structure and nonelectronic properties) Thin film structure and morphology
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!