Effect of atomic layer deposited ultra‐thin SiO 2 layer on vapour‐liquid‐solid (VLS) grown high dielectric TiO 2 film for Si‐based MOS device applications

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Micro & nano letters 2021-01, Vol.16 (1), p.71-76
Hauptverfasser:	Lodh, Soham, Chakraborty, Rajib, Das, Anindita
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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