Prevention of active area shrinkage using polysilicon stepped shallow trench isolation technology

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Electronics letters 2003-03, Vol.39 (6), p.569-570
Hauptverfasser:	Hun Lee, Choong, Joo Lee, Hyung
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!