Effective improvement of high-k Hf-silicate/silicon interface with thermal nitridation

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Electronics letters 2003-03, Vol.39 (5), p.421-422
Hauptverfasser:	Yang, Chih-Wei, Fang, Yean-Kuan, Chen, Shih-Fang, Lin, Chun-Yu, Wang, Ming-Fang, Lin, Yeou-Ming, Hou, Tuo-Hung, Yao, Liang-Gi, Chen, Shih-Chang, Liang, Mong-Song
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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