Evaluation of the performance of TaN diffusionbarrier againstcopper diffusion using SIMS and AFM

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Electronics letters 2001-05, Vol.37 (10), p.660-661
Hauptverfasser:	Teh, W.H., Koh, L.T., Chen, S.M., Xie, J., Li, C.Y., Foo, P.D.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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