Direct evidence for the formation of a passivating layer during chemomechanical polishing of silica by a hydrogen difluoride-based reagent

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of materials chemistry 1993, Vol.3 (8), p.903-904
Hauptverfasser:	BOYLE, D. S, CHUDEK, J. A, HUNTER, G, JAMES, D, LITTLEWOOD, M. I, MCGHEE, L, ROBERTSON, M. I, WINFIELD, J. M
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Chemistry Exact sciences and technology General and physical chemistry Solid-liquid interface Surface physical chemistry
Online-Zugang:	Volltext
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