Atomic layer deposition of B2O3/SiO2 thin films and their application in an efficient diffusion doping process

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Veröffentlicht in:	Journal of materials chemistry. C, Materials for optical and electronic devices Materials for optical and electronic devices, 2014-01, Vol.2 (29), p.5805
Hauptverfasser:	Kim, Woo-Hee, Oh, Il-Kwon, Kim, Min-Kyu, Maeng, Wan Joo, Lee, Chang-Wan, Lee, Gyeongho, Lansalot-Matras, Clement, Noh, Wontae, Thompson, David, Chu, David, Kim, Hyungjun
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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