Thermal annealing of colloidal monolayer at the air/water interface: a facile approach to transferrable colloidal masks with tunable interstice size for nanosphere lithography

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of materials chemistry 2012-11, Vol.22 (42), p.22678
Hauptverfasser:	Geng, Chong, Zheng, Lu, Yu, Jie, Yan, Qingfeng, Wei, Tongbo, Wang, Xiaoqing, Shen, Dezhong
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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