Vaporization process of SiO2 particles for slurry injection in inductively coupled plasma atomic emission spectrometry

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of analytical atomic spectrometry 2002-01, Vol.17 (2), p.109-114
Hauptverfasser:	Lim, H. B., Kim, T. H., Eom, S. H., Sung, Yong-ik, Moon, M. H., Lee, D. W.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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