Determination of trace impurities in organometallic semiconductor-grade reagents and process chemicals with electrothermal vaporization-inductively coupled plasma atomic emission spectrometry

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of analytical atomic spectrometry 1994, Vol.9 (10), p.1121-1128
Hauptverfasser: ARGENTINE, M. D, KRUSHEVSKA, A, BARNES, R. M
Format: Artikel
Sprache:eng
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Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0267-9477
1364-5544
DOI:10.1039/JA9940901121