Block copolymer multiple patterning integrated with conventional ArFlithography

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Soft matter 2010, Vol.6 (1), p.120-125
Hauptverfasser:	Park, Seung Hak, Shin, Dong Ok, Kim, Bong Hoon, Yoon, Dong Ki, Kim, Kyoungseon, Lee, Si Yong, Oh, Seok-Hwan, Choi, Seong-Woon, Jeon, Sang Chul, Kim, Sang Ouk
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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