Nanosheet-based complementary transistors with a 48 nm pitch
An industry-applicable fabrication flow for complementary field-effect transistors could pave the way for future logic scaling.
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Nature electronics 2023-12, Vol.6 (12), p.933-934 |
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| Format: | Artikel |
| Sprache: | eng |
| Schlagworte: | |
| Online-Zugang: | Volltext |
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| Zusammenfassung: | An industry-applicable fabrication flow for complementary field-effect transistors could pave the way for future logic scaling. |
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| ISSN: | 2520-1131 2520-1131 |
| DOI: | 10.1038/s41928-023-01090-z |