Directed Block Copolymer Assembly versus Electron Beam Lithography for Bit-Patterned Media with Areal Density of 1 Terabit/inch 2 and Beyond

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	ACS nano 2009-07, Vol.3 (7), p.1844-1858
Hauptverfasser:	Yang, XiaoMin, Wan, Lei, Xiao, Shuaigang, Xu, Yuan, Weller, Dieter K.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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